“陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳米行例。”
“也就是说，一但我们的浸润式光刻机上马，我们的技术水平将可以和asml比肩。同时，我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”
中心国际一处秘密研究基地，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。
“好，很好。”
看着眼前这一台光刻机，陈宇同样的有些激动。
前世，国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。
当然。
这倒不是说前世国人做不出光刻机。
其实光刻机技术国人是掌握的，但要做出达到全球顶尖制程的光刻机，那就不是那么容易的事了。
截止到2021年，前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。
但asml已经达到5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。
这是几十倍的差距。
同样也是几代水平的差距。
真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。……
(ò﹏ò)
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