极紫外光刻技术的另一大瓶颈无疑就是光刻胶了。
目前的行业现状是，半导体材料的供应都是十分集中的，而光刻胶技术算是全球集中度最高，并且壁垒也是最高的材料，被日本和北美合计占领了95%的市场份额。
三星电子半导体固然牛气哄哄，也却是很有实力，但实际上得看日本人的脸色，如果日本的半导体材料商在材料这块卡一下，三星半导体就要趴窝。
休息室里正在进行临时的技术交流探讨，一位负责光刻胶技术的工程师有条不紊的说道：“在248纳米和193纳米的光刻中，主流有超过二十年之久都是使用有机化学放大光刻胶car，这是一种用来制作图案成型的光敏聚合物。”
在极紫外光刻机下，光子专机car光刻胶并产生光酸，之后car光刻胶在曝光后的过程中进行光酸催化反应，进而产生光刻图案。
原理就是这么个原理。
那名工程师继续道：“把car光刻胶用于极紫外光刻技术上，但因为光源能量大幅度增加了，之前的实操结果显示会出现不同且复杂的结果，进而影响芯片的良……
(ò﹏ò)
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