九十纳米制程已经是现在市面上出现的最强的生产技术了。虽然大家都知道intel的德性，肯定是销售一代，储备一代，研发一代，他们手里肯定有比九十纳米制程更先进的技术，但是，再怎么跳跃性的突破，也不可能一下子从九十纳米制程提升到四十五纳米这么夸张。
按照总师的了解，因特尔的下一代至强芯片，制程应该在七十纳米到六十五纳米之间，具体数据不清楚，但范围大致明白。而正在研发的新技术，可能会落在五十纳米左右。
郭泰来上来忽然就让测试四十五纳米制程？虽然这次光刻机的设计是按照技术极限来设计的，可是，那得是理想状况下才能够达到的结果。本质上，光刻机作为一台机器，是一定会有制造公差的，这是没有办法的事情。就算是设计再怎么完美，也不可能做到零公差。
根据设计中的计算，这台光刻机如果能够做到完美无瑕，制程应该能在四十纳米左右。可是，随便在零件加工中增加一个纳米的误差，在装配中增加一个纳米的装配误差，无数的零部件组……
(ò﹏ò)
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